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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制造技术厂坐落华中的地区,基本生孩子85英寸半导体技术晶圆,每日生活污水排污物量约800吨。基于生孩子过程中 中选择海量氢氧化钠开展晶圆蚀刻,出现生活污水下氟化物浓硫酸浓度高达模型200-300mg/L,远超國家排污物规范(10mg/L以內)。 废水处理方法因素及来自 废水处理方法最主要产自六个节点: 晶圆蚀刻流程 :含高氨水浓度氟化物(HF)、盐酸及极富天价属 催化机械设备制造打蜡 (CMP)污水 :含nm级硅颗粒肥料、充分络合剂 环保设备除污焦化废水 :含异丙醇、氧化还原电位等有机的物 办理步骤流程步骤流程 选用"化学上积累+水泥混凝土积累+层次滤水"一级加工处理系统的: 七级外理 :加药氯化钙和氢腐蚀钙,演变成氟化钙积累,氟化物清理率达85% 中级处置 :获取PAC(缩聚氯化铝)和PAM(PP酰胺),取除溶液态空气有害物质 三级分销工作 :利用多媒质筛选器和特异性炭物理吸附,冒水氟化物酸度安全稳定在8mg/L以上 要素装置也包括:pH全自动转换系統、斜管放置池、板框隔膜压滤机(废水出现脱水)。 以后作用 活动工作5年评估数据表格信息显示: 氟化物月均酸度:7.2mg/L(少于地方原则) COD删去率:92% 活性污泥含水量率:≤65% 年回收利用氟化钙副车辆约150吨,做到资源的化利用

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