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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

工程情况 该半导体设备制作轻工业小区是在苏北位置,总交易高出200亿港元,最主要的种植125英寸晶圆和领先封装类型品牌。轻工业小区日减排废容量约5000吨,主要包括各种各样的工艺废污水,补救等级大。的项目需要废污水补救后以达到《电子元器件轻工业水废弃物物减排规格》(GB 39731-2020)特殊减排最大限度,一部分工业废水处理率不最低60%。 废液组成成分及来原 含氟废液:最主要的位于晶圆蚀刻、擦洗繁琐流程,氟化合物含量可高达200-500mg/L,pH值浮动大 无机废水处理:光刻、显影液、去胶等步骤所产生,COD盐浓度300-800mg/L,具有异丙醇、异丙醇等无机高沸点溶剂 含铜工业废水:真空镀膜、化学式机械性cnc精密机械加工(CMP)制作工序存在,铜化合物含量50-150mg/L 酸碱平衡工业废水:主设备清理、的废气干洗等部分所产生,pH值在2-12区间内起伏较大 研磨机废水处理:CMP多种工序产生,带有奈米级二脱色硅颗粒肥料 处理工艺设计步骤 主要包括"种类加工+分质加工+厚度净化后"的乐队组合制作工艺: 含氟电镀废水净化处理线 : 二级化学反应积淀:先加药系统氯化钙调低pH至6-7,加上入PAC和PAM斜板积淀池积淀 特异性氧化物铝离心分离:事关氟阳离子密度减至5mg/L左右 污水经板框压滤后都交给专业应对 生物碳废气处里线 : 微钛电极法预处里:铁碳微钛电极法吸附分子式巧妙物 UASB活性污泥发应器:HRT=24h,COD避开率>60% MBR膜生物体发应器:分为PVDF双层化学纤维膜,通量15LMH 含铜化工废水进行处理线 : 耐腐蚀奠定:加药NaOH调低pH至9-10,建成Cu(OH)2奠定 阴铁离子更换:两极不饱和树脂更换确保铜阴铁离子<0.3mg/L 电解抛光设备收购:一些工业废水经电解抛光设备收购合金铜 综合评估加工处理系统软件 : 自动调节池:稳定水质监测蓄水量,设暴气均匀搅拌 混凝土凝固:污泥脱水pp斜管沉淀池剂删去溶液材料 O3离子液体氧化物:吸附难吸附有机会物 反渗透膜性和机系统:脱盐率>98%,产水造纸废水处理于生育线 淤泥解决系统的 : 生活污水精炼池:物质质量浓度从1%升级至3% 离心法脱水烘干:成为PAM调里,泥饼含水分率<75% 高温干化:部份废水干化至含水量率30%接下来 然后功能 項目完工运营后,每一项指数比较稳定标:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜铁离子<0.3mg/L、pH 6-9。循环水生活饮供水到达GB/T 19923-2005工业品供水标,循环率65%,每一年较低丰富水摄入量约140万吨。工业废水引起量限制40%,安全窝囊废处里代价较低35%。体统一键化的情况高,高清在线监测器数值与环境团队时实下载客户端。

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