半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
項目时代背景
该企业行业生产方式半导体芯片用高纯氟化氢和六氟化钨,焦化废水氟浓度值较大且组成多样化。同一补救艺视觉效果不稳定性,氟化物的排放有时超预算。的项目的投资21000万元基础建设特地补救的设施,来设计补救学习能力500吨/天。
电镀废水部分及来源于
废水处理基本产于生孩子的设备除污和尾气洗衣:
氟铁离子浓硫酸浓度:1500-3500mg/L
含硝酸钠根铁离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含轻微钨、钼等重金属风格
净化处理技艺步骤流程
重要性高浓硫酸浓度基本特征,选择"采和+多极石雕文化沉淀+膜工作"加工制作工艺 :
焦化废水处理工艺整理池:分类管理整理各种不同含量焦化废水处理工艺
结合作用池:分分阶段添加氢脱色钠和氢脱色钙,把控最后pH至7.5-8.
斜板结晶池表现池:加药系统PAC和PAM资料结晶成效
斜管积淀池:效率固液离心分离
多物料滤过器:避开狗狗细小粉末
反渗入系统性:强度脱盐和除氟
活性污泥处理溶缩脱水处理等装置:离心分离脱水处理等后活性污泥处理清运正规专业代理
手机在线探测系統:进行监控摄像头氟阳离子溶液浓度和pH值
后面效果好
解决模式进行大数据:
接触不良氟阴离子年均密度:2800mg/L
水流氟化合物溶度:3.2mg/L(分別)
氟我们要除率:99.9%上
水造纸废水处理率:满足65%
设计主动化的情况高,推动废水清理工艺清理利润减轻30%,年收购氟化钙副品牌约400吨。